台積電年末使用16nm FinFET技術，15年進軍10nm晶片
台積電計畫在今年年末使用16nm的FinFET技術，還計畫利用EUV光刻技術在2015年製造10nm的晶片。來自EE Times的消息：台積電計畫在今年年末開始使用16納米的FinFET技術，另外還計畫通過EUV光刻技術在2015年製造出10納米的晶片。
台積電是世界上最大的半導體代工廠，但面臨著GlobalFoundries和三星的競爭。台積電CEO張忠謀認為他們還可以再發展7至8年，或更長時間，而制程技術可以達到10納米，甚至7納米。他還認為摩爾定律仍在延續，如果仍有其他人追隨這定律，他們也會這樣做。
他表示今年台積電的資本支出會超過90億美元，而2009年時為20億美元。
張忠謀
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繼續摩爾定律…
讓大家享受又快又省電的新產品吧！ 其實很好奇10nm的瓶頸要如何解決
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