台積電計畫明年試產20nm工藝，2015年引入FinFET技術
台積電計畫明年試產20nm工藝，2015年引入FinFET技術雖然28nm工藝的產能依然處於供不應求階段，不過台積電已經把目光瞄準了下一代的20nm工藝，並計畫在明年開始小規模投產。當然這還談不上是量產，只是一種實驗性生產，或者說是風險性試產而已，只有到了2014年才是20nm正式登場的良好時機。
另外與現在28nm工藝不同，台積電稱20nm工藝只有一個版本而不會像28nm那樣分成多個版本，畢竟後者雖然有很強的針對性，但是研發難度以及研發成本都比較高，生產效率也不高，因此20nm工藝只有一個版本。
台積電還稱，他們計畫在2015年推出16nm工藝，同時引入FinFET技術。FinFET是新的CMOS管技術，可支援最小9nm的制程工藝，目前英特爾和GF都在計畫引入這種技術，不過對應的產品預計要到2016年才能正式投產。
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