美光將於3月26日舉行設備進駐儀式 力積電銅鑼晶圓廠計畫將進入下一階段

今年1月，美光（Micron）宣布與力積電（PSMC）簽署獨家合作意向書，將以18億美元收購力積電位於苗栗縣銅鑼鄉的晶圓廠（不含生產相關機器設備），其中包含了一座面積達30萬平方英尺的300mm晶潔淨室，同時雙方將建立長期的RAM。

根據TrendForce報道，近日美光向合作夥伴發出了保密邀請函，表示將於2026年3月26日在力積電銅鑼晶圓廠舉行設備入駐儀式。美光也對出席人數進行了嚴格管控：每家供應商只能派出一名代表，參與者需在2026年3月13日前確認姓名和職稱。

根據美光的說法，這筆交易預計2026年第二季完成，之後美光將接手力積電P5工廠的廠區所有權和控制權。據了解，美光將在2026年至2027年之間分階段更新產線，主要用於先進DRAM生產的前端設備，預計2027年下半年該工廠產能達到美光全球產能的10%以上。

目前力積電的DRAM產能主要採用25nm及38nm製程，預計未來一年內可獲得美光授權的1y nm（第二代10nm等級）製程技術，後續還有機會再取得1z nm（第三代10nm等級）製程技術，進而提升DDR4的容量。這不僅讓力積電維持了在通用DRAM市場的競爭力，而且擴大了位元產出，同時也避免了與美光的產品線相互競爭。

此外，美光也預付了HBM後端晶圓製造產能的款項，實際上將力積電納入其先進封裝供應鏈之中。力積電也將獲得3D晶圓堆疊（WoW）與中介層（Interposer）等先進封裝技術與材料，進而實現轉型。

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