直逼1nm製程，ASML下一代EUV光刻機延期

ASML公司前兩天發布了財報，全年淨銷售額140億歐元，EUV光刻機出貨31台，帶來了45億歐元的營收，單價差不多11.4億歐元了。雖然業績增長很亮眼，但是ASML也有隱憂，實際上EUV光刻機的出貨不及預期的35台，而且他們還宣布了下一代高NA的EUV光刻機要到2025-2026年之間才能規模應用，意味著要延期了。

此前訊息顯示，ASML下一代EUV光刻機最早是2022年開始出樣，大規模量產是2024-2025年間。ASML的EUV光刻機目前主要是NEX:3400B/C系列，NA數值孔徑是0.33，下一代EUV光刻機是NEX:5000系列，可將NA提升到了0.55，意味著光刻機的解析度提升了70%。（注：NA越高，光刻機精度越高）

目前的EUV光刻機可以用於製造7nm到3nm製程的晶片，下代EUV光刻機則是針對3nm以下的製程，2nm甚至未來的1nm都要用到NA 0.55的EUV光刻機。

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