Intel董事稱ASML的高NA EUV機器在未來晶片製造中不會那麼重要

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發佈時間: 2025-6-17 22:29

Intel一位董事認為未來的電晶體設計可能會降低製造高階半導體時對先進微影設備的需求。 ASML的極紫外線 (EUV) 微影機是現代先進晶片製造的支柱，因為它們使台積電等公司能夠在晶片上列印極小的電路。然而這位Intel董 ...

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clouse 發表於 2025-6-18 09:38:28

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