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史上最先進！ ASML研發新一代Hyper NA EUV光刻機

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sxs112.tw
發佈時間: 2025-6-29 20:56

正文摘要:

全球最大半導體設備龍頭ASML已著手研發下一代Hyper NA EUV先進光刻機，為未來十年的晶片產業做準備。 Jos Benschop表示ASML及獨家光學合作夥伴蔡司（Carl Zeiss）正在研究可在單次曝光中印刷出解析度精細到5nm的EUV ...

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