台積電將採用光罩護膜，而不是轉向高數值孔徑EUV機器，並用於1.4nm、1nm先進製程

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發佈時間: 2025-10-22 15:33

較新的2nm製程可繼續利用台積電現有的EUV微影機進行量產，並提高良率。但隨著這家台灣半導體龍頭向1.4nm和1nm（也稱為A14和A10）等2nm以下製程邁進，它將面臨製造方面的障礙。現在透過購買ASML先進的高數值孔徑EUV微 ...

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