Intel 18A製程重要進展：良率已超越三星2nm

KeyBanc Capital Markets的分析報告顯示，Intel 18A製程的良率已從上一季的50%提升至55%，與競爭對手的對比中脫穎而出。

相較之下，三星的2nm製程（SF2）目前的良率大約在40%左右，而Intel 18A製程的良率已經超越了三星2nm。

雖然仍低於台積電N2的65%，但已具備Q4 2025量產（HVM）條件，屆時其良率可望進一步提升至70%，這將為Intel下一代行動CPU的生產提供有力支持。

雖然Intel的良率預計不會超越台積電，但擁有一個功能強大的過程就足夠該公司所用了。

Intel 18A製程的進步不僅有助於其內部產品的開發，如即將推出的Panther Lake系列，也為未來向外部客戶提供服務奠定了基礎。

Intel計劃在18A製程取得成功後，逐步向14A製程過渡，以進一步提升其在高階晶片市場的競爭力。

來源

18a=4nm