Intel:沒有EUV,我們也懂得如何用7nm製造晶片
今年的舊金山IDF會議上,Intel談論最多的是Broadwell和Skylake處理器,這兩代都是14nm製程的,再往後就是10nm以及7nm了,這兩種製程還在研究、探索中,他們需要更高級的製造設備,EUV(極紫外光光刻設備)就是關鍵之一,不過EUV現在還不成熟,Intel表示就算沒有EUV設備,他們也懂得如何用10nm、7nm製造未來的晶片。Intel理事Mark Bohr在回答製程相關的問題時表示,他的日常工作之一就是研究在沒有EUV光刻的情況下如何製造7nm晶片。對於EUV光刻這種核心設備,樂觀的看法也是10年內也不一定能升級,Intel在10nm節點不會使用EUV製程,7nm節點也不一定會,不過這時候還是有點希望的。Bohr表示他對EUV很感興趣,它可以幫助廠商提高產能,而且可能簡化製程,不幸的是EUV還沒有準備好,生產能力及可靠性都沒有達標。
至於如何在沒有EUV的情況下製造10nm及7nm晶片,Intel就沒有透露太多了,不過在14nm上,Intel已經使用了三重曝光(triple patterning)了。
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