Intel：沒有EUV，我們也懂得如何用7nm製造晶片

今年的舊金山IDF會議上，Intel談論最多的是Broadwell和Skylake處理器，這兩代都是14nm製程的，再往後就是10nm以及7nm了，這兩種製程還在研究、探索中，他們需要更高級的製造設備，EUV（極紫外光光刻設備）就是關鍵之一，不過EUV現在還不成熟，Intel表示就算沒有EUV設備，他們也懂得如何用10nm、7nm製造未來的晶片。

Intel理事Mark Bohr在回答製程相關的問題時表示，他的日常工作​​之一就是研究在沒有EUV光刻的情況下如何製造7nm晶片。對於EUV光刻這種核心設備，樂觀的看法也是10年內也不一定能升級，Intel在10nm節點不會使用EUV製程，7nm節點也不一定會，不過這時候還是有點希望的。Bohr表示他對EUV很感興趣，它可以幫助廠商提高產能，而且可能簡化製程，不幸的是EUV還沒有準備好，生產能力及可靠性都沒有達標。
至於如何在沒有EUV的情況下製造10nm及7nm晶片，Intel就沒有透露太多了，不過在14nm上，Intel已經使用了三重曝光（triple patterning）了。

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