380億三星7nm EUV工廠破土動工：新驍龍將在這裡誕生

2月23日消息，三星在官網宣布，投資60億美元在韓國華城（Hwaseong）興建新的半導體工廠，用於擴充7nm EUV的產能。該工廠已經破土動工，2019年下半年竣工，2020年之前投產。

據悉，光刻機最核心的元件就是紫外光源，目前常見的是ArF（氟化氬），但在7nm時代，必須由波長更短的DUV（深紫外）和EUV（極紫外）進行更精細的繪製工藝。有趣的是，三星在22號剛剛宣布和高通在5G行動晶片時代達成合作，後者的驍龍將使用前者的7nm打造。

三星將把EUV設備使用在7nm LPP（Low Power Plus）節點上，產品涵蓋手機、、網路設備、高性能數據中心等。資料顯示三星在韓國還有位於Giheung（京畿道器興）、Pyeongtaek（平澤）的半導體工廠，海外工廠則有兩座，分別位於美國德州的奧斯汀和中國的西安。

2017年三星在半導體事業中的投資達到了260億美元，創下歷史新高，這主要得益於其儲存晶片的巨大需求。

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