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中國研發出國產EUV設備,ASML壟斷陷入困境

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發佈時間: 2025-3-9 14:09

正文摘要:

中國本土的極紫外線(EUV)光刻技術發展還遠遠不是一個遙遠的夢想。最新系統目前正在華為東莞工廠進行測試,該系統採用雷射誘導放電等離子體 (LDP) 技術,代表了一種具有顛覆性的EUV光生成方法。該系統計劃於2025年 ...

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clouse 發表於 2025-3-10 00:22:30
時間問題asml死亡開始

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