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作者: sxs112.tw
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    [業界新聞] 三星5nm EUV製程關鍵突破:能效提升25%

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    眼下台積電和三星都在全力衝刺5nm製程,這將是7nm之後的又一個重要節點,全面應用EUV光刻技術,提升效果會非常明顯,所以都受到了高度重視。
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    現在三星的5nm取得了重要進展,來自EDA(電子自動化設計)巨頭Cadence、Synopsys的全流程設計工具已經通過了三星5LPE(Low Power Early)製程的認證,可以幫助晶片廠更快速地開發高效的、可預測的晶片。

    本次驗證使用的是ARM Cortex-A57、Cortex-A53晶片,結果完全符合三星新製程的需求,但是三星未透露更具體的指標,如核心數、頻率、功耗等。三星5LPE製程仍然使用傳統FinFET立體電晶體管,但加入了新的標准單元架構,並同時使用DUV、EUV光刻技術步進掃描系統。

    由於繼承了舊製程的部分指標,使用三星5LPE製程設計晶片的時候,可以重複使用7LPP IP,同時享受新製程的提升。三星7LPP製程將是其第一次導入EUV,但只有少數光刻層使用,5LPE會擴大使用範圍,效果更加明顯。按照三星的說法5LPE製程相比於7LPP製程可以帶來25%的邏輯電路能效提升,同時可將功耗降低20%,或者將性能提升10%。

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