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作者: Gary71
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    [業界新聞] 1nm製程難了 第二代EUV光刻機跳票三年 價格貴出天際

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    1#
    Gary71 發表於 2021-6-7 19:25:20 | 只看該作者 |只看大圖 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
    ASML是全球唯一一家量產EUV光刻機的廠商,台積電、三星、Intel的7nm、5nm及未來的3nm、2nm皆需仰賴EUV光刻機,單台售價超過1億美元,成本極高。

    ASML EUV光刻機目前使用的仍是第一代,EUV光源波長在13.5nm左右,物鏡的NA數值孔徑是0.33,開發了一系列型號。其中最早量產出廠的是NXE:3400B,產能有限,一小時生產晶圓是125PWH,目前的出貨主力是NXE:3400C,產能提升至135WPH,今年底還有NXE:3600D系列出貨,產能再進一步提升至160WPH,但價格亦會提高至1.45億美元。

    現在第一代的EUV光刻機NA指標太低,第二代EUV光刻機會是NXE:5000系列,其物鏡的NA將提升至0.55,進一步提高光刻精度,半導體製程突破1nm即要靠下一代光刻機了。

    010.jpg

    然而,NA 0.55的第二代EUV光刻機沒那麼容易,原本預計最快2023年上市,最新傳聞指稱NXE:5000系列跳票,且一下子就跳票三年,要到2025-2026年才有可能上市了。

    不僅時間延期,第二代EUV光刻機的價格亦會大漲,預期將達到3億美元,是目前EUV光刻機的2-3倍,此即意味著未來的晶片製程成本極其昂貴極,哪怕真能做到1nm製程,高昂的成本可能亦會令大多數公司卻步。

    若真如此發展下去,會不會1nm製程的大客戶就剩蘋果了?!

    訊息來源
    2#
    clouse 發表於 2021-6-7 23:22:41 | 只看該作者
    還有一個大客戶amd好嗎沒蘋果amd也有能力全包產能.
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