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作者: sxs112.tw
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[處理器 主機板] Intel 10nm製程揭秘:2.7倍電晶體管密度,首次使用貴金屬釕

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sxs112.tw 發表於 2018-6-14 11:05:37 | 顯示全部樓層 |閱讀模式
Intel現在的主力製程依然是14nm,目前已經發展了三代14nm製程,將會一直用到2019年底,之後才會升級10nm製程。不過10nm處理器最近已經上市了,聯想Ideapad 330就使用了10nm Cannonlake架構的Core i3-8121處理器,通過分析Intel的10nm製程電晶體管密度達到了100MTr/mm2,是14nm節點的2.7倍,而且Intel首次使用了貴金屬釕。
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Techinsights日前就以聯想Ideapad 330中的Core i3-8121處理器為例分析了Intel的10nm製程,詳細報告還沒有發布,他們只公布了部分數據,Intel的10nm製程主要創新如下:

·邏輯電晶體管密度達到了100.8MTr/mm2,也就是每平方毫米1億個電晶體管,電晶體管密度是14nm製程的2.7倍多。


Intel之前公佈的自家10nm製程特點

·10nm FinFET使用的是第三代FinFET電晶體管製程技術
·10nm製程的最小柵極距(gate pitch)從之前的70nm縮小到了54nm。
·10nm製程的最小金屬間距(metal pitch)從之前的52nm縮小到了36nm。

Intel 10nm製程亮點:

·與現有10nm及即將問世的7nm製程相比,10nm製程具有最好的間距縮小指標
·在後端製程BEOL中首次聯合使用金屬銅及釕,後者是一種貴金屬
·在contact及BEOL端使用了自對齊曝光方案(self-aligned patterning scheme)

設計亮點:
·通過6.2-Track高密度庫實現了超級縮放(Hyperscaling )
·Cell等級的COAG(Contact on active gate)技術

關於Intel的10nm製程優勢,之前我們也介紹過,而且Intel CEO也解釋過他們的10nm製程為什麼難產的問題,一大原因就是他們的10nm製程指標定的太高了,10nm製程100MTr/ mm2的電晶​​體管密度實際上跟台積電、三星的7nm製程差不多,性能指標是很好的,但遇到了良率這樣的問題,所以量產時間上要比其他兩家落後兩年多。

消息來源
金大帥 發表於 2018-6-14 18:10:08 | 顯示全部樓層
Intel之前公佈的自家14nm製程特點<<這邊是不是10nm才對?
 樓主| sxs112.tw 發表於 2018-6-14 20:24:01 | 顯示全部樓層
金大帥 發表於 2018-6-14 18:10
Intel之前公佈的自家14nm製程特點

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