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作者: sxs112.tw
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[業界新聞] 2021年ASML將推下一代EUV光刻機,將針對2nm、1nm製程

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sxs112.tw 發表於 2020-2-17 19:58:06 | 顯示全部樓層 |閱讀模式
作為全球唯一能生產EUV光刻機的公司,荷蘭ASML公司去年出售了26台EUV光刻機,主要用於台積電、三星的7nm及今年開始量產的5nm製程,預計今年出貨35台EUV光刻機。
2021年ASML將推下一代EUV光刻機,將針對2nm、1nm製程 - XFastest - ee3f1bd5-0233-4947-9174-1f53d0667368.jpg
目前ASML出貨的光刻機主要是NXE:3400B及改進型的NXE:3400C,兩者基本結構相同,但NXE:3400C採用模組化設計,維護更加便捷,平均維修時間將從48小時縮短到8 -10小時,支援7nm、5nm。

此外NXE:3400C的產能也從之前的125WPH(每小時處理晶圓數)提升到了175WPH。不論NXE:3400B還是NXE:3400C,目前的EUV光刻機還是第一代,主要特點是物鏡系統的NA(數值孔徑)為0.33。

根據光刻機的解析度公式,NA數字越大,光刻機精度還會更高,ASML現在還研發NA 0.55的新一代EUV光刻機EXE:5000系列,主要合作夥伴是卡爾蔡司、IMEC比利時微電子中心。EXE:5000系列的下一代光刻機主要針對後3nm時代,目前三星、台積電公佈的製程路線圖也就到3nm,2nm甚至1nm製程都還在構想中,要想量產就需要新的製造裝備,新一代EUV光刻機是重中之重。

根據ASML的訊息,EXE:5000系列光刻機最快在2021年問世,不過首發的還是樣品,真正用於生產還得等幾年,樂觀說法是2023年或者2024年才有可能看到NA 0.55的EXE:5000系列光刻機上市。

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