不讓ASML獨大 日本曝光機巨頭要打價格戰

荷蘭ASML艾司摩爾不僅獨佔了全球EUV曝光機，於DUV曝光機市場中亦是一騎絕塵，此方面已經完全超越了曾經的霸主日本，但Nikon並未打算放棄，現在要與ASML打價格戰。

Nikon社長兼執行長大村泰弘日前受訪表示，正在嘗試提供價格低於ASML的方式來贏得新的ArF曝光機訂單。Nikon有打價格戰的本錢，大村泰弘指出，Nikon能於成本上與ASML競爭，因為其可以自產許多零件。

目前，Nikon正在與亞洲及美洲的主要晶片製造商進行談判，已經接近達成採購訂單了。

ArF曝光機是DUV曝光機中的一種，且屬當前比較高階的類別，193nm波長，有乾式及浸潤式兩種類型，以後者為高階，ASML目前主力型號1980i、2000i就是此等級的。

ArF曝光機配合多種技術之後可以量產7nm等級製程，即便是EUV曝光機量產多年之後，晶片生產中依然需要ArF曝光機，因為不是所有的晶片層都要用EUV微影，不然成本就太高了。

Nikon、Canon不僅是相機巨頭，曾經亦為曝光機領域的王者，地位一度比ASML都高，Intel早年即採購了大量Nikon的曝光機，比重一度高達80%。

不過諷刺的是，或許就是對日系曝光機依賴度太高，導致Intel錯過了DUV到EUV的升級轉換，反而令其這十年來落後於台積電了。

但是，Nikon ArF曝光機仍有其優勢之處，自身即有光學鏡頭研發，關鍵尺寸均勻性（Critical Dimension Uniformity）方面表現一直很好，而且現在要打價格戰，20-30%的降價意味著能節省大量投資，很適合晶圓廠作為ASML曝光機的低規版搭配使用。

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